| 主要特點(diǎn) | 多種濺射靶頭及電源可選，自由組合，具體請(qǐng)致電我公司銷售部。
根據(jù)所使用的電源（DC或RF），可以沉積金屬或非金屬材料。
一個(gè)旋轉(zhuǎn)開關(guān)可以依次激活濺射頭，可在真空或等離子體環(huán)境中自動(dòng)切換，不影響真空度。
可以安裝五種不同材料的靶材，每個(gè)靶頭可單獨(dú)設(shè)置濺射時(shí)間功率等參數(shù)，用于生長不同成分的薄膜。
可選購多個(gè)射頻電源，同一時(shí)間濺射多個(gè)靶材。
可選配設(shè)備控制軟件，用電腦控制濺射的所有參數(shù)。 |
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| 濺射腔體 | 真空腔體采用304不銹鋼制作
腔體內(nèi)部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (105 L)
鉸鏈?zhǔn)角婚T，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口 |
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| 濺射頭&樣品臺(tái) | 5個(gè)1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層（圖一）
濺射腔體內(nèi)安裝有電動(dòng)擋板
濺射距離:濺射距離可調(diào) 濺射角度:濺射角度可調(diào)
實(shí)驗(yàn)時(shí)，需要將靶材和靶材的銅墊片用導(dǎo)電銀漿粘合粘合，（可在本公司購買導(dǎo)電銀漿）
可以單獨(dú)訂購RF連接線作為備用（圖二）
設(shè)備需要一臺(tái)水冷機(jī)，用于靶頭冷卻（圖三）
原理圖請(qǐng)參考（圖四）
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| 樣品臺(tái) | 直徑為150mm的樣品臺(tái)，上面覆蓋一旋轉(zhuǎn)臺(tái)，帶有10mm的孔洞，每次露出一個(gè)樣品接收濺射成膜。
樣品臺(tái)尺寸：Φ150mm,可通過程序控制來旋轉(zhuǎn)，可制作16種不同組分的薄膜
樣品臺(tái)可以加熱，最高溫度可達(dá)600℃（根據(jù)配置不同可能會(huì)有變動(dòng)，具體請(qǐng)咨詢銷售部） |
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| 真空系統(tǒng) | 安裝有KF40真空接口
真空度：4.0e-5Torr(分子泵）（參考值，具體請(qǐng)點(diǎn)擊）
可在本公司選購各種真空泵 |
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| 進(jìn)氣 | 設(shè)備上配1/4英寸進(jìn)氣口方便連接氣瓶
設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕，方便調(diào)節(jié)氣流 |
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| 靶材 | 所要求靶材尺寸：直徑為25mm,最大厚度3mm
可在本公司選購各種靶材 |
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| 薄膜測(cè)厚儀（可選） | 可在本公司選購薄膜測(cè)厚儀安裝在濺射儀上
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| 凈重 | 60Kg（不包括泵) |
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| 質(zhì)保 | 一年保修，終身技術(shù)支持。
2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 |
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| 使用提示 | 此設(shè)備為DIY設(shè)備，參數(shù)變化較大購買前請(qǐng)務(wù)必電話仔細(xì)溝通
為了得到較好的薄膜質(zhì)量，必須通入高純氣體（建議> 5N）
在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺(tái)的潔凈
要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合，請(qǐng)?jiān)跒R射前清潔基材表面
超聲波清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮?dú)飧稍铮?）真空烘箱除去水分。
等離子清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學(xué)鍵，可祛除額外的污染物。
制造一個(gè)薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。
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| 警告 | 注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動(dòng)機(jī)體。
氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥（設(shè)備標(biāo)配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕
濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶 |
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| 國家專利 | 專利名稱：一種用于高通量鍍膜工藝的五靶磁控濺射鍍膜儀
專利號(hào)：ZL 2018 2 0416442.8
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