- 加熱爐設(shè)備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設(shè)備
- 壓片設(shè)備
- 輥壓設(shè)備
- 切割設(shè)備
- 磨拋設(shè)備
- 清洗設(shè)備
- 電池研發(fā)設(shè)備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實驗室設(shè)備
氮化鎵(GaN)晶體基片
- 產(chǎn)品概述:
- GaN易與AlN、InN等構(gòu)成混晶,能制成各種異質(zhì)結(jié)構(gòu),已經(jīng)得到了低溫下遷移率達(dá)到105cm2/Vs的2-DEG(因為2-DEG面密度較高,有效地屏蔽了光學(xué)聲子散射、電離雜質(zhì)散射和壓電散射等因素).科晶公司將為您提供高品質(zhì)低價位的氮化鎵晶體和基片。
免責(zé)聲明:
本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等)僅用于宣傳用途,僅供參考。由于更新不及時和網(wǎng)站不可預(yù)知的BUG可能會造成數(shù)據(jù)與實物的偏差,請勿復(fù)制或者截圖。如果您對參數(shù)有異議,或者想了解產(chǎn)品詳細(xì)信息及更多參數(shù),請與本公司銷售人員聯(lián)系。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾,請勿將此參數(shù)用于招標(biāo)文件或者合同,科晶公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知,請您諒解。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
技術(shù)參數(shù)
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制作方法: | HVPE(氫化物氣象外延法) | 傳導(dǎo)類型: | N型;半絕緣型 | 電阻率: | R<0.05 Ω.cm; R | 表面粗糙度: | <0.5nm | 位錯密度: | <5x106Ω.cm | 可用表面積: | >90% | TTV: | ≤15um | Bow: | ≤20um |
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產(chǎn)品規(guī)格
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晶體方向: 注:可按照客戶要求加工尺寸及方向。 |
標(biāo)準(zhǔn)包裝
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1000級超凈室100級超凈袋或單片盒裝 |
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