- 加熱爐設(shè)備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設(shè)備
- 壓片設(shè)備
- 輥壓設(shè)備
- 切割設(shè)備
- 磨拋設(shè)備
- 清洗設(shè)備
- 電池研發(fā)設(shè)備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實(shí)驗(yàn)室設(shè)備
Ge晶體基片
- 產(chǎn)品概述:
- 化學(xué)符號(hào)為Ge?,主要用途有:制作半導(dǎo)體器件、紅外光學(xué)器件及太陽能電池襯底等材料。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實(shí)驗(yàn)案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
技術(shù)參數(shù)
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密度: | 5.765 g/cm3 ; | 熔點(diǎn): | 937.4 ℃; | 熱傳導(dǎo)性: | 640; | 摻雜物質(zhì): | 不摻雜;摻Sb;摻In或Ga; | 類型: | /;N;P; | 電阻率W.cm: | >35;0.05;0.05-0.1; | EPD: | < 4x103/cm2 < 4x103/cm2 < 4x103/cm2 |
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常規(guī)尺寸
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晶體方向: <111>,<100>and<110>± 0.5° 或特殊的方向; 標(biāo)準(zhǔn)拋光片尺寸:Ф1"x 0.3mm;Ф2"x0.5mm; (<110> Ra<5A,不化拋) 注:也可根據(jù)客戶需求提供特殊尺寸和方向的基片 |
備注
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1000級(jí)超凈室100級(jí)超凈袋單片盒或25片插盒封裝 |
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