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Si+SiO2基片
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常規(guī)尺寸

常規(guī)晶向:

常規(guī)尺寸:

dia2"、dia4";膜層300nmSiO2

膜層厚度:

氧化層厚度:50nm~1um;

氧化情況:

單面氧化 或者 雙面氧化;

鍍膜方法:

干氧法或者雙氧法;

注:可以按照客戶要求鍍膜,可供應dia6"鍍膜片可以按照客戶要求加工尺寸

標準包裝

1000級超凈室100級超凈袋真空包裝或單片盒裝 

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