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A-Z晶體及材料加熱爐系列樣品處理設(shè)備電池制備設(shè)備分析檢測(cè)設(shè)備其他實(shí)驗(yàn)室設(shè)備技術(shù)支持/服務(wù)培訓(xùn)

加熱爐設(shè)備
晶體及材料
破碎/球磨設(shè)備
壓片設(shè)備
輥壓設(shè)備
切割設(shè)備
磨拋設(shè)備
清洗設(shè)備
電池研發(fā)設(shè)備
薄膜制備
配件
其它實(shí)驗(yàn)室設(shè)備

熱處理設(shè)備: 管式爐箱式爐箱管混合

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加熱方式: 電阻加熱紅外燈管加熱感應(yīng)加熱微波加熱

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加熱形式: 常規(guī)爐立式箱管混合式回轉(zhuǎn)爐

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加熱溫度: 300-1200 1250-1500 1600-2000

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加熱溫區(qū): 單溫區(qū) 雙溫區(qū) 三溫區(qū) 多溫區(qū) 感應(yīng)加熱專用

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管徑: ф?25 ф?50 ф?60 ф?80 ф?100 ф?120及以上

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1200℃三溫區(qū)PE粉體回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)

關(guān)鍵字：: 4通道混氣、自動(dòng)進(jìn)出料、等離子增強(qiáng)、5英寸
型號(hào)：: OTF-1200X-III-R5-PECVD
產(chǎn)品概述：: OTF-1200X-III-R5-PECVD是一款1200℃等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積三溫區(qū)回轉(zhuǎn)管式爐系統(tǒng)（R-PECVD），等離子增強(qiáng)系統(tǒng)的引入可在相對(duì)較低的溫度下實(shí)現(xiàn)粉末表面的包覆復(fù)合、核殼結(jié)構(gòu)制備等工藝過程。自動(dòng)進(jìn)出料系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)，可保證在氣氛保護(hù)環(huán)境下進(jìn)行粉體的進(jìn)給和收集，包含射頻電源（帶自動(dòng)匹配功能）、四通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)及真空泵系統(tǒng)，可由PLC觸摸屏或PC電腦控制，使用方便快捷。

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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實(shí)驗(yàn)案例警示/應(yīng)用提示配件詳情

設(shè)備名稱

1200℃5英寸三溫區(qū)等離子增強(qiáng)粉體回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng) （2019.10.31-科晶實(shí)驗(yàn)室審核）

產(chǎn)品提示

1、多種配件可選提示 2、特殊設(shè)備尺寸設(shè)備 3、科晶實(shí)驗(yàn)室邀請(qǐng)?zhí)崾?/span> 4、配件妥善保管提示

產(chǎn)品特點(diǎn)

? 爐體在0 - 25°內(nèi)傾斜，有利于粉末樣品的裝卸；

? 齒輪驅(qū)動(dòng)管式爐旋轉(zhuǎn)可有效地提高復(fù)合粉末熱處理的均勻性；

? 四通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)可以對(duì)氣體的輸送進(jìn)行精確的調(diào)控；

? 配備自動(dòng)進(jìn)出料系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)，可保證在氣氛保護(hù)環(huán)境下進(jìn)行粉體的進(jìn)給和收集。

加熱爐參數(shù)

三溫區(qū)回轉(zhuǎn)爐

? 最高溫度：1200℃（<30min）；連續(xù)工作溫度：1100℃；

? 三個(gè)PID溫度控制器及50段可編程溫控系統(tǒng)，控溫精度：±1℃；

? 輸入功率：208-240 V，單相，最大功率：4 KW；

? 高純氧化鋁纖維保溫層可以最大限度降低能耗；

? 回轉(zhuǎn)爐旋轉(zhuǎn)速度：2-10 rpm；

? 爐體開啟式設(shè)計(jì)以達(dá)到對(duì)樣品快速降溫，方便更換爐管。

更多參數(shù)請(qǐng)聯(lián)系科晶銷售部

射頻電源

	300W射頻電源	500W射頻電源	100W射頻電源
輸出功率	0-300W可調(diào) （穩(wěn)定性：±1%）	0-500W可調(diào) （穩(wěn)定性：±1%）	0-100W可調(diào) （穩(wěn)定性：±1%）
射頻頻率	13.56 MHz （穩(wěn)定性：±0.5%）	13.56 MHz （穩(wěn)定性：±0.5%）	13.56 MHz （穩(wěn)定性：±0.5%）
匹配	自動(dòng)匹配	自動(dòng)匹配	手動(dòng)匹配
噪音	＜50dB	＜50dB	＜50dB
冷卻方式	風(fēng)冷	風(fēng)冷	風(fēng)冷
輸入電壓	AC180-250V	AC108-250V	AC110-240V
圖片

真空系統(tǒng)

? 采用TRP-12的雙旋真空泵；

? KF25卡箍及波紋管用于連接管式爐與真空泵；

? 真空度可達(dá)10-2Torr。

供氣系統(tǒng)

? 四通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)氣體流量的精確控制（精確度：±0.02%）；

? 流量范圍:

一路	0-100 sccm
二路	0-200 sccm
三路	0-200 sccm
四路	0-500 sccm

? 電壓：208-240V， AC， 50/60Hz；

? 氣體進(jìn)出口配件：6mm OD的聚四氟管或不銹鋼管；

? 不銹鋼針閥用于手動(dòng)控制氣體進(jìn)出；

? PLC觸摸屏可以簡(jiǎn)便地進(jìn)行氣體流量設(shè)置。

產(chǎn)品尺寸和重量

? 設(shè)備尺寸：2800mm L× 800mm W×1700mm H

? 供氣系統(tǒng)：600mm L×700mm W×700mm H

? 凈重：180 kg

認(rèn)證

? 如您另外付費(fèi)，我們可以保證單臺(tái)儀器的TUV(UL61010)或CSA 認(rèn)證

圖片1.png

承諾

? 一年質(zhì)保期，終身維護(hù)（不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件）

國(guó)家專利

專利名稱：一種自動(dòng)收送料等離子回轉(zhuǎn)升降爐系統(tǒng)

專利號(hào)：ZL 2020 2 0542143.6

尊重原創(chuàng)、鄙視抄襲、侵權(quán)必究。

儀表操作視頻

科晶應(yīng)用技術(shù)實(shí)驗(yàn)室利用PECVD在不同功率（75W、150W、300W）條件下沉積Sb2Se3薄膜，實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下：

組別	SEM結(jié)果	元素百分比
		Sb (%)	Se(%)
未經(jīng)任何處理的樣品		40.01	59.99
等離子體處理		41.04	58.96
等離子體處理 min		41.64	58.36
等離子體處理5 min		41.86	58.14

小結(jié):

（1）等離子體能改變Sb2Se3薄膜的形貌，同時(shí)改變Sb2Se3的組成；

（2）隨著射頻電源功率的增加，Sb2Se3中的Se百分含量降低。

組別	SEM結(jié)果	元素百分比
		Sb (%)	Se(%)
10W、條件下沉積Sb2Se3		40.01	59.99
75W、條件下沉積Sb2Se3		70.28	29.72
75W、3Pa且補(bǔ)充0.1g Se粉沉積Sb2Se3		43.13	56.87
75W、且補(bǔ)充2粉末（10%質(zhì)量比Sb2Se3）沉積Sb2Se3		Sn: 22.78 Sb: 25.77	51.44

小結(jié):

（1）低功率等離子體條件下可得到近原子比的Sb2Se3；

（2）高壓條件下可得到富Sb的Sb2Se3薄膜；

（3）添加Se會(huì)破壞PECVD沉積的Sb2Se3的原子比；

（4）當(dāng)SnSe2質(zhì)量比為10%時(shí)，可以得到Sb：Sn摩爾比接近于的薄膜，該方法適用于摻雜。

XRD結(jié)果

警示

（1）爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02 MPa；

（2）由于氣瓶?jī)?nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時(shí)，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購(gòu)減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa，使用時(shí)會(huì)更加精確安全；

（3）石英管的長(zhǎng)時(shí)間使用溫度＜1100℃；

（4）當(dāng)爐體溫度高于1000℃時(shí)，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng)，保持在常壓狀態(tài)。

應(yīng)用技術(shù)提示

（1）通入爐內(nèi)氣體流量需小于200 sccm，以避免冷的大氣流對(duì)加熱石英管造成沖擊；

（2）加熱時(shí)，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥。若需要關(guān)閉氣閥對(duì)樣品加熱，則需時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02 MPa，需立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂、法蘭飛出等）。

石英管	（1）標(biāo)準(zhǔn)5英寸高純異形石英管；（2）兩端直徑為60mm，中間直徑為127mm。
密封法蘭	（1）一對(duì)不銹鋼快接法蘭（法蘭上安裝有KF25真空接頭）；（2）磁流體密封旋轉(zhuǎn)接頭安裝在兩端，以保證旋轉(zhuǎn)過程中進(jìn)氣管和其它附件的正常使用，避免卷繞。配件法蘭1 配件法蘭2
進(jìn)料/收料器	（1）EQ-PF-1S是一款容積式自動(dòng)進(jìn)料器，包含電動(dòng)攪拌器及帶有振動(dòng)裝置的不銹鋼料斗，可實(shí)現(xiàn)固體粉料的自動(dòng)化進(jìn)料，從而實(shí)現(xiàn)固態(tài)粉料的連續(xù)式燒結(jié)/熱處理；（2）2L不銹鋼收集桶安裝在右側(cè)，可實(shí)現(xiàn)真空氣氛保護(hù)環(huán)境下的粉料樣品收集（標(biāo)配中包含）進(jìn)料器收料器
真空泵及真空表	（1）EQ-YTP-550雙級(jí)真空泵包含在設(shè)備中，請(qǐng)點(diǎn)擊圖片了解詳細(xì)參數(shù)；（2）KF25卡箍及波紋管用于連接管式爐與真空泵；（3）真空度可達(dá)10-2Torr；注：可選購(gòu)防腐型數(shù)顯真空表EQ-PCG-554 用于乙炔甲烷氫氣等其他氣體氛圍下的真空度測(cè)量
四通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)	（1）四通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)氣體流量的精確控制（精確度：±0.02%）；（2）流量范圍: 一路: 0-100 sccm 二路: 0-200 sccm 三路: 0-200 sccm 四路: 0-500 sccm （3）電壓：208-240V AC 50/60Hz；（4）氣體進(jìn)出口配件：6mm OD的聚四氟管或不銹鋼管；（5）不銹鋼針閥用于手動(dòng)控制氣體進(jìn)出；（6）PLC觸摸屏可以簡(jiǎn)便地進(jìn)行氣體流量設(shè)置。