| 設備名稱 | 3L數(shù)控等離子清洗機(配真空泵,6"x6.5"石英腔室)-PCE-6 （2019.11.1-科晶實驗室審核） |
| 產(chǎn)品提示 | 1、多種配件可選提示 2、特殊設備尺寸設備 3、科晶實驗室邀請?zhí)崾?/span> 4、配件妥善保管提示 |
| 設備特點 | 擁有6英寸清洗腔室，可清洗約5英寸直徑的基片。 ·通過控制面板的按鍵及開關，可控制調節(jié)射頻功率、清洗時間如圖一。 真空泵的開閉如圖二。 ·時間、功率、真空度等信息顯示在一組4位數(shù)碼管上。 ·設有一個三通閥，可大體控制進氣流量，以及大氣流清洗腔體，進氣接口為6mm卡套接口。 ·選用大功率射頻電源設備可進行等離子刻蝕和等離子灰化實驗。
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| 主要參數(shù) | 輸入功率：AC 220V，50/60 Hz， 真空泵：<500W 總功率：<600W 射頻功率：射頻功率（施加在線圈上的高壓和高頻電流）可以在三個級別上調節(jié)：低設置7.2W；中設置10.2W; 高設定29.6W 射頻頻率：3MHz，功率3檔可手動調節(jié) 真空泵：120L/min，直連式雙旋真空泵 極限真空度：50mtorr
更多參數(shù)請聯(lián)系科晶銷售部 |
| 機體結構 | ·高純石英腔體，Φ160mm×190mm，采用鋁制折疊式法蘭進行密封，法蘭上設有Φ45mm 的觀察窗 ·帶觀察窗的鉸鏈式門，便于樣品加載和觀察
控制面板：控制功能：清潔時間，射頻功率，真空泵。 |
| 惰性氣體 | ·通入氣體：可通入多種氣體來產(chǎn)生等離子，如N2、Ar、H2、O2、Air和混合氣體等（根據(jù)材料性質選定） ·等離子清洗機不得使用易燃及腐蝕性氣體 |
| 清洗及蝕刻 |
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| 外形尺寸 | ·400mm×300mm×300mm
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| 凈重 | 10.2kg |
| 質保期 | 一年保修，終身技術支持。 特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 |
科晶應用技術實驗室用此設備清洗基片，清除表面污染物，以供參考。
清洗前向基片上滴入0.05ml水滴，其結果如圖所示。通入氬氣清洗十分鐘后，向基片上滴入0.05ml水滴，其結果如圖所示。 | ||
石英 |
圖1 清洗前 |
圖2 清洗后 |
硅片 |
圖3 清洗前 |
圖4 清洗后 |
警示 | 1、正壓會損壞等離子石英室。 2、清洗機工作時禁止拆開上蓋，并關閉清洗腔門。 3、嚴禁堵塞后部和下部通風口。損壞電源。 4、電子管需預熱。否則會損壞電子管壽命，甚至損壞電源。 5、不建議通入腐蝕性氣體。 |
·如果需要一個通入兩種氣體的工藝解決方案，PCE-6等離子清洗機可以與2路混氣系統(tǒng)組合，如圖一。
·您可以訂購石英晶片載體來盛放清潔的基片，如圖二。
·您可選配雙極旋片式真空泵進行抽真空，如圖三
圖一 圖二 圖三
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