| 設(shè)備名稱 | 超聲旋轉(zhuǎn)噴涂儀（300-3000 rpm，300mm晶片）—VTC-300USS （2019.12.27—科晶實驗室審核） |
| 產(chǎn)品提示 | 1、多種配件可選提示 2、特殊設(shè)備尺寸設(shè)備 3、科晶實驗室邀請?zhí)崾?/strong> 4、配件妥善保管提示 |
| 產(chǎn)品特點 | 超聲霧化法是將溶液霧化后噴涂到基體上，從而得到想要的物質(zhì)結(jié)構(gòu)，可選配上部加熱烘烤結(jié)構(gòu)。 此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當長的歷史。 現(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得廣泛應(yīng)用。 |
| 基本參數(shù) | 1、輸入電源：208V-240V 50Hz/60Hz 2、旋轉(zhuǎn)涂膜模塊 基片直徑200mm，最高轉(zhuǎn)速可達3000rpm；基片直徑300mm，最高轉(zhuǎn)速可達3000rpm。 3、超聲霧化模塊
顆粒大?。?10um-20um 流量大小： 0.6pl~4ml/min 固體含量： ≤ 10% 粘度大?。?≤ 100cPs 4、注液系統(tǒng) 本司提供多種形式的供液系統(tǒng)（單路、多路、加熱等） 更多參數(shù)請聯(lián)系科晶銷售部 |
| 產(chǎn)品規(guī)格 |
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| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：不需要 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備噴頭為氣動輔助，需配套空氣壓縮機或者氣瓶（含減壓閥） 4、工作臺：占地面積2m2以上 5、通風裝置：需要 |
應(yīng)用技術(shù)提示 | ? 旋轉(zhuǎn)噴涂儀必須放到通風柜中使用，防止液體揮發(fā)到實驗室中，（可在本公司購買通風柜） ? 為了獲得最佳的涂覆效果，建議在涂覆之前對基片進行等離子清洗（點擊圖片查看等離子清洗機詳細資料），采用等離子清洗后不僅可以清潔基片表面，而且可大大減小基片的表面張力 |
標準配件 | 旋轉(zhuǎn)機構(gòu)1套； 超聲霧化電源+霧化噴頭1套； 單路供液系統(tǒng)1套； 無油泵1臺 | ||
可選配件 | 多路（可加熱）供液系統(tǒng)，烘干裝置等 | ||
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