| 產(chǎn)品名稱 | 1100度小型真空/氣氛快速升降溫RTP滑軌爐（載物臺：4英寸 升溫速度：50度/S）OTF-1200X-RTP-4-SL |
| 產(chǎn)品提示 | 1.多種配件可選提示 2.科晶實驗室邀請?zhí)崾?/span> ? 3.配件妥善保管提示 |
| 主要特點 | ? 采用短波紅外燈管對樣品加熱，可達到快速加熱的效果。 ? 快速升溫，最高達50℃/s。 ? 超大管徑φ110mm。 ? 安裝了一組滑軌，可使用控制旋鈕使熔爐自動以可變速度從一側移動到另一側。 ? 最高溫度可達1100℃。 ? 雙層殼體結構，并帶有風冷系統(tǒng)，可有效降低殼體表面溫度。 ? 內(nèi)爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命。 ? 開門斷電，提高實驗安全性。 |
| 基本參數(shù) | ·最大1100oC，持續(xù)時間<10分鐘 ·最大1000oC，持續(xù)＜20分鐘（注意：如果運行時間更長，爐殼將＞100oC，必須使用風扇從外部冷卻爐殼） ·最大800oC，持續(xù)時間<120分鐘 ·連續(xù)溫度最高600oC ? 法蘭：KF-25D型不銹鋼高真空法蘭 ? 加熱元件：8根紅外燈管(每根1.5KW) ? 最大功率：12KW(>60A 保險) ? 設備電源：AC220V/50HZ 單相 ? 循環(huán)水流量:0.5 m3/h ? 標配流量計量程范圍：16-160 ml/min |
| 爐管及滑軌 | ? 高純石英管?4英寸外徑x 1400mm長 ? 鍍鉻鋼制成的雙滑軌 ? 滑軌長度：1400毫米 ? 直流電機驅動 |
| 滑動控制 | ? 自動滑動由溫度控制器控制。 加熱程序完成后，爐子將以設定的速度從右向左滑動。風扇會吹動加熱區(qū)域以實現(xiàn)快速冷卻。 ? 滑動范圍：340mm ? 滑動速度可調(diào) |
| 真空法蘭 | ? 不銹鋼真空法蘭安裝在爐管的兩端，便于組裝，法蘭上有1/4英寸直徑的通孔，用于插入K型熱電偶。 ? 法蘭端提供多種接頭可選，具體請咨詢銷售。 |
| 溫控系統(tǒng) | ? 采用PID方式調(diào)節(jié)溫度，可設置50段升降溫程序 ? 溫控儀表中帶有過熱和斷偶保護 ? 儀表控溫精度: +/- 1°C |
| 開門斷電 | ? 為保證使用安全，該電爐為開門斷電設計 |
| 質保 | ? 一年保修，終身技術支持。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 |
| 文獻 |
科晶實驗室對OTF-1200X-4-RTP設備的追溫溫差和恒溫精度做了一系列實驗研究，得出以下經(jīng)驗以供參考：
1）升溫速率越慢，控溫精度越高，升溫速率越快，追溫溫差越大。
升溫速率 | 追溫溫差 | 控溫精度（恒溫精度） |
1℃/s | < 5℃ | +-0.5℃ |
2℃/s | < 10℃ | +-1℃ |
50℃/s | 溫差較大，但30s內(nèi)恒溫 | +-1℃ |
2）570℃以下降溫不可控。
降溫速率 | 可控溫度情況（參考） |
40℃/min | 570℃以上，可控制降溫 |
60℃/min | 600℃以上，可控制降溫且誤差<5℃，600℃-570℃，誤差<10℃ |
實驗名稱：RTP快速升溫爐的升溫速度與最終溫度間的可調(diào)關系
實驗目的：1、升溫速度能否保持恒定；
2、恒溫波動是否小于1℃；
3、實現(xiàn)目的：保持一定的升溫速度，待到達恒溫溫度時，升溫速度減緩的溫度點越接近恒溫溫度越好。
適用領域：鐵磁性材料的制備
實驗結果：
100℃/min，到400℃ | 斜率基本恒定；沖溫＜1℃；升速減緩點在398℃ |
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100℃/min，到700℃ | 斜率基本恒定；沖溫＜1℃；升速減緩點在698℃ |
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400℃/min，到400℃ | 斜率基本恒定；沖溫≤1℃；升速減緩點在395℃ |
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400℃/min，到700℃ | 斜率基本恒定；沖溫≤1℃；升速減緩點在395℃ |
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300℃/min，到700℃ | 斜率基本恒定；沖溫≤1℃；升速減緩點在795℃ |
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600℃/min，到700℃ | 斜率基本恒定；沖溫≤2℃；升速減緩點在790℃ |
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以上數(shù)據(jù)總結，存在調(diào)試差異，具體詳情請聯(lián)系合肥科晶實驗室 | ||
應用技術提示 | · 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥。 · 進入爐管的氣體流量需小于200sccm，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊。 · 該設備的長時間使用溫度為600℃。 · 降溫時請利用程序降溫，不建議直接按“STOP”鍵降溫，設備溫度未降到室溫前不要直接關掉設備電源，防止出現(xiàn)安全問題。 · 在進行化學氣相沉積后，石墨烯可從金屬催化劑轉移到另一個基片襯底上，此法可被廣泛應用制備二維材料。通過CVD法生長的石墨烯，表面平整度高且無殘渣。 · 此爐可以增加鍍SiC的石墨坩堝改造成RTE(快速熱蒸發(fā)）爐（可查看下方的圖片自己制備RTE） |
注意事項 | · 當爐體溫度高于900℃時，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態(tài)。 · 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa。 · 爐管不建議正壓使用，對于樣品加熱的實驗，不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等）。 · 滑動加熱室即可快速冷卻樣品。 如果要這樣做，請穿戴防護裝備，例如耐熱服和手套。 加熱時請勿觸摸管子表面。 · 如需高溫取樣，請務必穿戴好安全裝置。 |
可選配件 | · 紅外燈管為可更換的(圖1)，如有需要請聯(lián)系我們的銷售人員。 · 樣品架可選：3"O.D的石墨襯底替代AlN陶瓷片。(圖2) · 可選：將含坩堝蓋蓋規(guī)格為87 O.D×71 I.D×12 H mm的石墨坩堝設計三個坩堝架，則可被改造成一個RTE，CSS或HPCVD爐，另外石墨坩堝表面涂有SiC涂層。(圖3) · 多種供氣系統(tǒng)可選。(圖4) · 建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全。（請點擊這里學習如何安裝減壓閥）。(圖5) · 可選購壓力控制模塊來監(jiān)控并保持工作腔室壓力穩(wěn)定。(圖6)
圖1 圖2 圖3 圖4 圖5 圖6 |
PC控制(選配） | · 請在購買爐子前，準備一臺電腦。 · 可選購MTS-02?控制軟件，可在電腦上顯示和設定壓力和溫度程序，以達到遠程控制。 · 購買帶有PC控制的加熱爐，如有疑問請聯(lián)系我們的銷售人員。
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真空配件(選配） | · 真空可選配件包括真空泵，波紋管和手動擋板閥。
· 對于易損耗件高溫硅膠O型密封圈除了標配數(shù)量外可進行額外訂購。
· 機械真空計（作為設備標配），范圍從-0.1到0.15Mpa。 · 可選配防腐型數(shù)顯真空表，測量范圍為3.8×10E -5至1125 Torr之間。除了具有較高的精度和重復性及較短的響應時間外，該儀表還降低了由于氣體類型依賴性而造成的氣壓讀數(shù)錯誤從而導致的腔室爆炸風險。
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真空泵組(選配） | 此設備也可以進行抽真空，配合本公司生產(chǎn)的真空泵組
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