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A-Z晶體及材料加熱爐系列樣品處理設(shè)備電池制備設(shè)備分析檢測設(shè)備其他實驗室設(shè)備技術(shù)支持/服務(wù)培訓(xùn)

加熱爐設(shè)備
晶體及材料
破碎/球磨設(shè)備
壓片設(shè)備
輥壓設(shè)備
切割設(shè)備
磨拋設(shè)備
清洗設(shè)備
電池研發(fā)設(shè)備
薄膜制備
配件
其它實驗室設(shè)備

熱處理設(shè)備: 管式爐箱式爐箱管混合

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加熱方式: 電阻加熱紅外燈管加熱感應(yīng)加熱微波加熱

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加熱形式: 常規(guī)爐立式箱管混合式回轉(zhuǎn)爐

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加熱溫度: 300-1200 1250-1500 1600-2000

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加熱溫區(qū): 單溫區(qū) 雙溫區(qū) 三溫區(qū) 多溫區(qū) 感應(yīng)加熱專用

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管徑: ф?25 ф?50 ф?60 ф?80 ф?100 ф?120及以上

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高真空腔體

型號：: HVC-SS
產(chǎn)品概述：: 這是一個預(yù)制多功能真空腔體，可以根據(jù)客戶需求定制，例如作為真空濺射腔體（可在頂部添加多個濺射靶頭），CVD,ALD等等。同時，也可以單獨作為一個高真空儲存盒使用。

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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情

腔體	·304不銹鋼制造，并配備有加強筋 ·內(nèi)部尺寸：470mm L×445mm D×522mm H ·配備φ380 mm 密封門，配備150 mm玻璃觀察窗 ·采用硅膠O型密封圈 ·工作溫度范圍： -15 to 150°C
真空/壓力	·E-3 torr 使用機械泵，具體型號請點擊 ·4E-5使用分子泵，具體型號請點擊
接口/配套裝置	·在腔體的右側(cè)安裝有一個KF40接口，用于連接真空泵 ·共計4個KF25接口，三個在腔體右側(cè)一個在左側(cè) ·共計三個用于充放氣的真閥，兩個在在腔體后面，一個在左側(cè) ·頂部蓋板可以開啟，用于連接客戶定制的設(shè)備 ·接口與閥門可以按照客戶的要求進行定制
應(yīng)用	·磁控濺射腔體：一個完整的磁控濺射系統(tǒng)包含：1個真空腔體，磁控濺射靶頭，濺射電源（DC or RF）,真空泵系統(tǒng)（機械泵或者分子泵），水冷系統(tǒng)。圖示為一個使用真空腔體搭建的完成磁控濺射系統(tǒng)（DC/RF可切換）此真空腔體可以安裝單個或者多個濺射靶頭。最多安裝3個2"靶頭或5個1"靶頭。如果您有定制需求，請聯(lián)系我們對靶頭匹配等事宜進行討論，我們可以在真空腔體上根據(jù)您的需求安裝好靶頭。
應(yīng)用案例	·可安裝3個2"靶頭或5個1"靶頭
可選	·請點擊圖1選擇通用的真空配件，點擊圖2選擇可以擺放此腔體的真空泵系統(tǒng)點擊圖3選擇相關(guān)磁控濺射配件
尺寸
質(zhì)保	·質(zhì)保一年