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1200℃等離子增強(qiáng)HPCVD回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)
關(guān)鍵字:
包含原位熱蒸發(fā)系統(tǒng)、4通道混氣系統(tǒng)以及真空泵系統(tǒng)
型號(hào):
OTF-1200X-II-PEC4
產(chǎn)品概述:
OTF-1200X-II-PEC4是一款1200℃等離子增強(qiáng)混合物理化學(xué)氣相沉積(HPCVD)雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)。此系統(tǒng)由射頻電源(帶自動(dòng)匹配功能)、上游原位蒸發(fā)舟、4通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)及性能優(yōu)異的真空泵組成。此套完整的設(shè)備適用于無機(jī)復(fù)合粉末的熱處理及粉末表面的均勻包覆(如:制備鋰離子電池陰極粉末的導(dǎo)電涂層等)。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實(shí)驗(yàn)案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
設(shè)備名稱

1200℃等離子增強(qiáng)HPCVD回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)—OTF-1200X-II-PEC4 (2019.12.23—科晶實(shí)驗(yàn)室審核)

產(chǎn)品提示

1、多種配件可選提示   2、特殊設(shè)備尺寸設(shè)備   3、科晶實(shí)驗(yàn)室邀請(qǐng)?zhí)崾?/span>   4、配件妥善保管提示

產(chǎn)品特點(diǎn)

? 爐體可在0 ~ 25°內(nèi)傾斜有利于粉末樣品的裝入和取出

? 射頻電源可實(shí)現(xiàn)等離子增強(qiáng)從而顯著降低實(shí)驗(yàn)溫度

? 齒輪驅(qū)動(dòng)管式爐旋轉(zhuǎn)可有效地提高復(fù)合粉末熱處理的均勻性

? 4通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)可以對(duì)氣體的輸送進(jìn)行精確的調(diào)控

? 集成在前端的帶鎢絲加熱的坩堝舟可以對(duì)前驅(qū)體進(jìn)行蒸發(fā)用于后續(xù)的混合物理化學(xué)氣相沉積階段。

相關(guān)視頻

QQ截圖20200629145546.jpg    image.png

           操作視頻                   回轉(zhuǎn)爐+送料器操作視頻

加熱爐參數(shù)

? 最高溫度:1200oC(<30min),連續(xù)工作溫度:1100℃;

? 兩個(gè)PID溫度控制器及50段可編程溫控系統(tǒng);

? 輸入功率:208-240V,單相,最大功率:2.5KW;

? 高純氧化鋁纖維保溫層可以最大限度降低能耗;

? 回轉(zhuǎn)爐旋轉(zhuǎn)速度:2-10rpm;

? 爐體開啟式設(shè)計(jì),以達(dá)到對(duì)樣品快速降溫,方便更換爐管。


加熱爐參數(shù).jpg    圖片1.jpg



更多參數(shù)請(qǐng)聯(lián)系科晶銷售部

蒸發(fā)舟參數(shù)

? 0.7mL氧化鋁坩堝(由鎢絲加熱圈包圍);

? S型熱電偶插入坩堝中實(shí)現(xiàn)對(duì)蒸發(fā)物料的精確測(cè)溫;

? 最高溫度可達(dá)1300℃(<1h),長(zhǎng)期使用溫度:1200℃(當(dāng)管內(nèi)溫度達(dá)800℃時(shí),蒸發(fā)舟溫度可達(dá)1500℃)。


蒸發(fā)舟圖1.png    蒸發(fā)舟照片.jpg   蒸發(fā)舟圖3.jpg

射頻電源

? 科晶公司現(xiàn)有不同功率的射頻電源可供選擇,以滿足不同實(shí)驗(yàn)條件的需求。



300W射頻電源

500W射頻電源

100W射頻電源

輸出功率

0-300W可調(diào)

(穩(wěn)定性:±1%)

0-500W可調(diào)

(穩(wěn)定性:±1%)

0-100W可調(diào)

(穩(wěn)定性:±1%)

射頻頻率

13.56 MHz

(穩(wěn)定性:±0.5%)

13.56 MHz

(穩(wěn)定性:±0.5%)

13.56 MHz

(穩(wěn)定性:±0.5%)

匹配

自動(dòng)匹配

自動(dòng)匹配

手動(dòng)匹配

噪音

<50dB

<50dB

<50dB

冷卻方式

風(fēng)冷

風(fēng)冷

風(fēng)冷

輸入電壓

AC180-250V

AC108-250V

AC110-240V

圖片

圖片2.jpg 

圖片3.jpg 

圖片4.jpg
真空系統(tǒng)

? 采用TRP-12的雙旋真空泵;

? KF25卡箍及波紋管用于連接管式爐與真空泵;

? 真空度可達(dá)10-2Torr。


圖片5.jpg

供氣系統(tǒng)

? 四通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)氣體流量的精確控制(精確度:±0.02%);

? 流量范圍:


一路

0-100 sccm

二路

0-200 sccm

三路

0-200 sccm

四路

0-500 sccm


? 電壓:208-240V, AC, 50/60Hz;

? 氣體進(jìn)出口配件:6mm OD的聚四氟管或不銹鋼管;

? 不銹鋼針閥用于手動(dòng)控制氣體進(jìn)出;

? PLC觸摸屏可以簡(jiǎn)便地進(jìn)行氣體流量設(shè)置。


圖片6.jpg      圖片7.jpg

產(chǎn)品尺寸和重量

? 爐體尺寸:2800mm L ′ 800mm W ′1700mm H;

? 混氣系統(tǒng)尺寸:600mmL′850mm W′700mm

? 凈重:180kg


設(shè)備尺寸.jpg

認(rèn)證

? 如您另外付費(fèi),我們可以保證單臺(tái)儀器的TUV(UL61010)或CSA 認(rèn)證

圖片1.png

承諾

? 一年質(zhì)保期,終身維護(hù)(不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件)

? 因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。

國(guó)家專利

專利名稱:一種等離子增強(qiáng)旋轉(zhuǎn)爐裝置


專利號(hào):ZL 2019 2 1533393.7


尊重原創(chuàng)、鄙視抄襲、侵權(quán)必究。

科晶應(yīng)用技術(shù)實(shí)驗(yàn)室利用PECVD在不同功率(75W、150W、300W)條件下沉積Sb2Se3薄膜,實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下:


圖片1.jpg


組別

SEM結(jié)果

元素百分比



Sb (%)

Se(%)

未經(jīng)任何處理的樣品


1.jpg

2.jpg

40.01

59.99

等離子體處理


3.jpg

4.jpg

41.04

58.96

等離子體處理 min


5.jpg

6.jpg

41.64

58.36

等離子體處理5 min


7.jpg

8.jpg

41.86

58.14

小結(jié):

(1)等離子體能改變Sb2Se3薄膜的形貌,同時(shí)改變Sb2Se3的組成;

(2)隨著射頻電源功率的增加,Sb2Se3中的Se百分含量降低。





組別

SEM結(jié)果

元素百分比



Sb (%)

Se(%)

10W、條件下沉積Sb2Se3


1.jpg

2.jpg

40.01

59.99

75W、條件下沉積Sb2Se3


3.jpg

4.jpg

70.28

29.72

75W、3Pa且補(bǔ)充0.1g Se粉沉積Sb2Se3


5.jpg

6.jpg

43.13

56.87

75W、且補(bǔ)充2粉末(10%質(zhì)量比Sb2Se3)沉積Sb2Se3

7.jpg

8.jpg

Sn: 22.78 Sb: 25.77

51.44

小結(jié):

(1)低功率等離子體條件下可得到近原子比的Sb2Se3;

(2)高壓條件下可得到富Sb的Sb2Se3薄膜;

(3)添加Se會(huì)破壞PECVD沉積的Sb2Se3的原子比;

(4)當(dāng)SnSe2質(zhì)量比為10%時(shí),可以得到Sb:Sn摩爾比接近于的薄膜,該方法適用于摻雜。



XRD結(jié)果


圖片2.jpg

警示

? 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02 MPa;

? 由于氣瓶?jī)?nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時(shí),氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購(gòu)減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時(shí)會(huì)更加精確安全;

? 石英管的長(zhǎng)時(shí)間使用溫度<1100℃;

? 當(dāng)爐體溫度高于1000℃時(shí),爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng),保持在常壓狀態(tài);

? 射頻電源工作時(shí),請(qǐng)勿觸碰。

應(yīng)用技術(shù)提示

? 通入爐內(nèi)氣體流量需小于200 sccm,以避免冷的大氣流對(duì)加熱石英管造成沖擊;

? 加熱時(shí),不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥。若需要關(guān)閉氣閥對(duì)樣品加熱,則需時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02 MPa,需立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂、法蘭飛出等);

? 射頻電源在低氣壓、低功率條件下起輝。

防腐型真空表

(可選)

? 輸入電源24V,1A  DC(配有電壓轉(zhuǎn)換器);

? 測(cè)量范圍3.8′10-5-1125 Torr;

? 數(shù)據(jù)顯示:數(shù)顯(屏幕尺寸為20′14mm),其單位為torr

? 連接:1/8"NPT 接頭

? 產(chǎn)品尺寸 46mm×28mm×126mm ( L′W′ H)


配件真空表.jpg

爐管

? 高純異形石英管尺寸:兩端:25 mm OD′22 mm ID;中間:50mm O.D′44mm I.D′190mm L


圖片1.jpg

密封法蘭

? 一對(duì)不銹鋼快接法蘭(法蘭上安裝有KF25真空接頭);

? 磁流體密封旋轉(zhuǎn)接頭安裝在兩端,以保證旋轉(zhuǎn)過程中進(jìn)氣管和其它附件的正常使用,避免卷繞。


配件法蘭1.jpg   配件法蘭2.jpg 配件法蘭圖3.jpg    配件法蘭圖4.jpg

     配件法蘭1                配件法蘭2                配件法蘭3                  配件法蘭4  

進(jìn)料/收料器

? EQ-PF-1S是一款容積式自動(dòng)進(jìn)料器,包含電動(dòng)攪拌器及帶有振動(dòng)裝置的不銹鋼料斗,可實(shí)現(xiàn)固體粉料的自動(dòng)化進(jìn)料,從而實(shí)現(xiàn)固態(tài)粉料的連續(xù)式燒結(jié)/熱處理;

? 2L不銹鋼收集桶安裝在右側(cè),可實(shí)現(xiàn)真空氣氛保護(hù)環(huán)境下的粉料樣品收集(標(biāo)配中包含)


進(jìn)料器.jpg  收料器.jpg

      進(jìn)料器                      收料器

溫儀表

(可選)

? 單回路、雙回路和三回路控制模式;

? 每個(gè)回路可實(shí)現(xiàn)雙輸入,雙保護(hù);

? 各回路可PID、串級(jí)、比率等回路控制;

? 數(shù)碼顯示,配備7個(gè)按鍵,可用于進(jìn)行各控制回路的切換和參數(shù)修改;

? 最多可存儲(chǔ)50個(gè)程序,每個(gè)程序最多可有3個(gè)不同的設(shè)定值(即3條不同的曲線),最多可設(shè)置500段升降溫程序;

? 通訊方式多樣,Modbus/Profibus DP/DeviceNet/EI-Bisync/RS485通訊接口,可連接PC進(jìn)行遠(yuǎn)程控制。


歐陸.jpg

真空系統(tǒng)

(可選)

? 科晶公司提供一系列低真空、高真空及進(jìn)口高真空設(shè)備,以滿足在不同真空條件下的實(shí)驗(yàn)需求。


低真空系統(tǒng)

國(guó)產(chǎn)高真空系統(tǒng)

進(jìn)口高真空系統(tǒng)

低真空系統(tǒng).png

高真空.jpg

進(jìn)口高真空.png

                   

供氣系統(tǒng)

(可選)

? 科晶公司提供各種通道浮子、質(zhì)子流量計(jì)可供選擇,以實(shí)現(xiàn)氣體流量的精確控制。


單通道浮子

單通道質(zhì)子

兩通道浮子

兩通道質(zhì)子

多通道浮子(防腐)

1通道浮子.jpg

1通道質(zhì)子.jpg

2通道浮子.JPG

2通道質(zhì)子.jpg

3通道浮子(防腐).jpg


相關(guān)產(chǎn)品
公司環(huán)境

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合肥科晶品牌紀(jì)錄片                                    公司環(huán)境

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