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1200℃ 4溫區(qū)坩堝可移動型管式爐
關鍵字：
4溫區(qū)、坩堝可移動
型號：
OTF-1200X-IV-HPCVD
產品概述：
OTF-1200X- IV -HPCVD是一款坩堝可在爐管內移動（靠步進電機控制）的4溫區(qū)管式爐，所有電器元件都通過了UL / MET / CSA認證。爐管外徑為50mm,設備最高工作溫度為1200℃，每個溫區(qū)長度為100mmL, 每個溫區(qū)由獨立的溫控系統(tǒng)控制，都可設置50段升降溫程序，控溫精度為+/-1℃。通過觸摸屏數(shù)字控制器控制樣品臺或坩堝在爐管內的位置和溫度。此設備可進行快速熱處理，例如混合物理化學沉積（HPCVD），快
速熱蒸發(fā)（RTE），以及在各種氣氛下進行的水平布里奇曼晶體生長（HDC），用于新一代晶體研究。
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技術參數(shù)產品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
設備名稱

1200℃ 4溫區(qū)坩堝可移動型管式爐-OTF-1200X-IV-HPCVD
產品提示

1.多種配件可選提示  2.科晶實驗室邀請?zhí)崾?/strong>  3.配件妥善保管提示
主要特點

·爐子配備步進電機，通過觸摸屏數(shù)字控制器使樣品臺或坩堝在爐管內移動。

·最高溫度可達1200℃。

·雙層殼體結構，并帶有風冷系統(tǒng)，可有效降低殼體表面溫度。

·內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命。
基本參數(shù)

·最高溫度: 1200℃（≤30min）工作溫度: 1100℃

·推薦升溫速率:≤10℃/min

·加熱區(qū)長度：總長度400mm,四個加熱區(qū)，每個加熱區(qū)長度100mm

·加熱元件：摻鉬鐵鉻鋁合金

·電壓：220V

·最大功率為：3.5KW

·通過機械泵可達到75mTorr
真空密封

·高純石英管50mm外徑x44mm內徑x 680mm長

·采用KF結構密封法蘭，硅膠密封圈密封

·法蘭上安裝有一個機械壓力表

·右端法蘭與一個真空不銹鋼波紋管連接
PLC控制

·一個直徑為1/4＂的鎧裝熱電偶（K型），通過法蘭伸入到爐管中，并可隨坩堝移動，可實時監(jiān)測樣品的實際溫度。

·通過步進電機移動爐管內的坩堝（樣品臺），最大行程為400mm(1#溫區(qū)至4#溫區(qū)距離）。

·通過觸摸屏設定坩堝一定的距離和目標位置，坩堝移動速度為1-180mm/min

·在熱電偶上安裝了一個微型石英坩堝舟。

圖片16.png  
溫控系統(tǒng)

·采用PID方式調節(jié)溫度，可設置50段升降溫程序

·溫控儀表中帶有過熱和斷偶保護

·儀表控溫精度: +/- 1°C

·熱電偶型號：K型
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